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真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex 阿摩利亚气体)破坏，解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线，解决液晶的受潮问题，解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜的过滤系统。 1.EBM 电子式EC 马达控制无尘室**FFU。 2.镜面不锈钢结构体。 3.特殊导流风道设计，风压平均，可有效提供风量，降低噪音。 4.电路板控制模块，提供安 全保护装置，运转异常指示灯及控制干接点输出。 5.无段式风量调速器可任意调整风量大小。 6.滤网ULPA，0.12μm，99.9995%以上的过滤效果。 7.电力规格：单相220V 50Hz 0.95A，输出功率150W。网带炉哪个性价比高？合肥真萍科技告诉您。淮安大型网带炉专卖

恒温恒湿箱试验箱是航空、汽车、家电、科研等领域必备的检测设备，用于测试电子、电工及其它产品及材料进行高温、低温、交变湿热度或恒定试验的温度环境变化参数及性能。该系列产品适用于航空航天产品、信息电子仪器仪表、材料、电工、电子产品、各种电子元气件在高低温或湿热环境下、检验其各项性能指标。下面为大家介绍一下真萍科技的恒温恒湿试验箱的控制特点。   加湿是恒温恒湿试验箱不同于高低温试验箱的相当主要一部分，恒温恒湿试验箱采用外置隔离式，全不锈钢锅炉式浅表面蒸发式加湿器。祛湿方式采用机械制冷祛湿，将空气冷却到**温度以下，使大于饱和含湿量的水汽凝结析出，这样就降低了湿度。   送风循环系统：空气循环系统由耐温低噪音空调型电机，多叶式离心风轮构成。它提供了试验机内空气的循环。   控制系统是综合试验箱的**，它决定了试验机的升温速率，精度等重要指标。试验机的控制器大都采用PID控制，也有少部分采用PID与模糊控制相组合的控制方式。由于控制系统基本上属于软件的范畴，而且此部分在使用过程中，一般不会出现问题。福建烧结网带炉批发合肥真萍科技的网带炉是否耐用？

下面为大家介绍一下全自动HMDS真空烤箱的技术指标。 1.HMDS管路加热功能，使HMDS液体进入箱体的前端管路加热，使转为HMDS气态时更易。 2.低液报警装置，采用红外液体感测器，能及时灵敏给出指令（当HMDS液过低时发出报警及及时切断工作起动功能） 3.温度与PLC联动保护功能（当PLC没有启动程序时，加温功能启动不了，相反加温功能启动时，PLC程序不按正常走时也及时切断工作功能，发出警报） 4.整个箱体及HMDS气体管路采用SUS316不锈钢材料，整体使用无缝焊接（避免拼接导致HMDS液体腐蚀外泄对人体的伤害）

真萍科技洁净烘箱是参照GB/T11158-1989，GB2423，2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造，广泛应用于电子液晶显示，LCD,CMOS,IC，医药实验室等生产及科研部门。下面为大家介绍一下洁净烘箱的的测控系统和控制系统。 一、测控系统 1.温度控制装置：日本进口温控器，内置PID自动整定，斜率设定功能 2.温度控制方式为SSR固态继电器功率调整输出，温度采集探头为特制铠装K型热电偶 3.温度监控装置：采用日本六通道巡回检测 有纸记录仪，可将烤箱内实时环境温度进行检测打印。 二、控制系统 1.操作控制系统，采用精密电子仪器仪表结合电力拖动系统控制，更快速，更稳定。 2.防护措施：紧急停止，超温保护,断线报警，相序保护，过载保护，短路保护，漏电保护，及电磁门禁保护等。网带炉选购应该注意哪些呢？合肥真萍科技告诉您。

电热鼓风烤箱适用于各种产品或材料及电气、仪表、元器件、电子、电工及汽车、航空、通讯塑胶、机械、食品、化工、化学品、五金工具在恒温环境条件下作干燥和各种恒温适应性试验。下面为大家介绍一下真萍科技电热鼓风烤箱的可选择配件（需另外收费，订购时请注意）。 1.可编程液晶控制器，可实现升温速率可调和保温时间可调。 2.**限温控制器，可实现在主控制器失灵后设备升温过高的情况下立即切断加热。 3.无纸记录仪，通过USB接口将其记录的数据导入计算机可供分析、打印等，是有纸记录仪的更新换代产品，相当多八通道温度记录。 4.配RS-485接口，可连接计算机和记录仪，实现时时***工作状态。 5.温度测试孔，可实现不同测试线或仪器插入设备工作室内进行各种实验，测试孔孔径有φ25、φ50、φ80可选。 6.载物托架，烘箱设备标配是2个载物托架，客户可根据自身需求增配托架数量。合肥真萍科技告诉您网带炉的外观设计有哪些要求。福建烧结网带炉批发

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本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱，首先简单介绍一下HMDS 预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。   增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。淮安大型网带炉专卖